Börsenkürzel: | FRA:PL8
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- AIXTRON unterstützt Nexperia bei der Erweiterung der Produktionskapazitäten. - Neue G10-Anlagen verbessern die Effizienz und Produktivität. - Nexperia steigert die Produktion von SiC- und GaN-Bauelementen. Nexperia hat sich entschieden, seine 200mm-Volumenproduktion für Siliziumkarbid (SiC) und Galliumnitrid (GaN) Leistungsbauelemente auszubauen. Hierfür setzt das Unternehmen auf die G10-Epitaxie-Anlagen von AIXTRON. Diese Entscheidung unterstützt die strategische Partnerschaft beider Unternehmen und zielt darauf ab, die Produktivität und Effizienz in der Halbleiterproduktion zu steigern. Die neuen Anlagen ermöglichen die Herstellung von GaN- und SiC-Epitaxie-Schichten, die in verschiedenen Energieumwandlungsanwendungen genutzt werden. Diese Anwendungen umfassen unter anderem Rechenzentren, Solarwechselrichter, Elektrofahrzeuge und Züge. Nexperia hat im Jahr 2023 einen Umsatz von mehr als 2,1 Milliarden USD erzielt und setzt seine Wachstumsstrategie mit der Produktion von Wide-Bandgap-Halbleitern fort. Mit der Integration der G10-Anlagen in die Hamburger Produktionsstätte von Nexperia wird die Halbleiter-Produktionskapazität in der Region weiter gestärk...